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透明软质薄膜的表面形貌测量

刘淑杰 张元良 张洪潮

刘淑杰, 张元良, 张洪潮. 透明软质薄膜的表面形貌测量[J]. 中国光学(中英文), 2014, 7(2): 326-331. doi: 10.3788/CO.20140702.0326
引用本文: 刘淑杰, 张元良, 张洪潮. 透明软质薄膜的表面形貌测量[J]. 中国光学(中英文), 2014, 7(2): 326-331. doi: 10.3788/CO.20140702.0326
LIU Shu-jie, ZHANG Yuan-liang, ZHANG Hong-chao. Profile measurement of thin transparentsoft film surface[J]. Chinese Optics, 2014, 7(2): 326-331. doi: 10.3788/CO.20140702.0326
Citation: LIU Shu-jie, ZHANG Yuan-liang, ZHANG Hong-chao. Profile measurement of thin transparentsoft film surface[J]. Chinese Optics, 2014, 7(2): 326-331. doi: 10.3788/CO.20140702.0326

透明软质薄膜的表面形貌测量

doi: 10.3788/CO.20140702.0326
基金项目: 

国家自然科学基金资助项目(No.51205043);高等学校博士学科点专项科研基金新教师基金资助项目(No.20120041120033)

详细信息
    作者简介:

    张元良(1959-),男,博士,副教授,1998年于大连理工大学获得博士学位,主要从事精密测量、测控技术与仪器方面的研究。E-mail:zlygzh@yahoo.com.cn

    通讯作者:

    刘淑杰,E-mail:liushujie@dlut.edu.cn

  • 中图分类号: O436.1;TB92;TP394.1

Profile measurement of thin transparentsoft film surface

  • 摘要: 为了实现光刻胶表面形貌的广域、高精度测量,对新一代测量理论及测量方法进行了研究。首先分析了被测物件的特性,根据其柔软、透明的特征提出应用光干涉法和机械探针相结合的方法进行测量,同时阐明了使用此方法进行表面形貌测量的优点,并据此原理搭建了光学多探针表面形貌测量装置,光学测量部分采用白光干涉计,探针部分采用拥有8只球型探头的多点悬臂测量探针。然后应用此装置对标准刻槽试件和半透明光造型薄膜试件进行了测量。测量52 nm的标准刻槽试件时得到了测量误差小于2%,标准偏差小于1 nm的结果,表明本装置可以达到高精度测量表面形貌的目的。通过测量高约400 nm的树脂材料证实了此装置可以克服多重反射的影响测量透明薄膜的表面形貌。

     

  • [1] International Technology Roadmap for Semiconductor(ITRS 2009), 2010. [2] CONLEY W, BENDIK J. Is ArF the final wavelength[J]. Proc SPIE, 2004, 5376:16-20. [3] 巩岩, 张巍. 光刻曝光系统的现状及发展[J]. 中国光学, 2008, 1(1):25-35. GONG Y, ZHANG W. Present status and progress in 193 nm exposure[J]. Chinese Optics, 2008, 1(1):25-35.(in Chinese) [4] 吴兆喜, 黄元庆. 基于光学原理的三维形貌测量技术研究[J]. 光学技术, 2006, 32:654-658. WU ZH X, HUANG Y Q. Study on optical methods for 3-D shape measurement[J]. Opt. Technique, 2006, 32:654-658.(in Chinese) [5] 王佳, 赵洋, 张书练, 等. 纳米计量学与纳米计量测试技术(一)[J]. 航空计测技术, 1995, 15(5):3-5. WANG J, ZHAO Y, ZHANG SH L, et al.. Nano metrology and nano metrology testing technology(1)[J]. Aviation Metrology & Measurement Technology, 1995, 15(5):3-5.(in Chinese) [6] 张立超, 高劲松. 长春光机所深紫外光学薄膜技术研究进展量[J]. 光学 精密工程, 2011, 11(20):2395-2401. ZHANG L CH, GAO J S. Developments of DUV coating technology in CIOM[J]. Opt. Precision Eng., 2011, 11(20):2395-2401.(in Chinese) [7] FUKUDA K, ITO T, KOBAYASHI M. Nano indentation of the resist for electron beam lithography[J]. JSME Annual Meeting, 2003(4):105-106. [8] 王淑珍, 谢铁邦, 常素萍. 复合型超精密表面形貌测量仪[J]. 光学 精密工程, 2011, 19(4):828-835. WANG SH ZH, XIE T B, CHANG S P. Combined profilometer for ultra-precision surface topography[J]. Opt. Precision Eng., 2011, 19(4):828-835. [9] LIU S, NAGASAWA S, TAKAHASHI S, et al.. Development of a multi-ball-cantilever AFM for measuring resist surface[J]. J. Robotics and Mechatronics, 2006, 18(6):698-704. [10] ZYGO C. NewView Accessories. Product guide for the NewView 3D Surface Profiler, 2001.
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出版历程
  • 收稿日期:  2013-10-16
  • 修回日期:  2014-02-18
  • 刊出日期:  2014-03-25

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