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数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性

曾海峰

曾海峰. 数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性[J]. 中国光学(中英文). doi: 10.37188/CO.2024-0021
引用本文: 曾海峰. 数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性[J]. 中国光学(中英文). doi: 10.37188/CO.2024-0021
数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性[J]. Chinese Optics. doi: 10.37188/CO.2024-0021
Citation: 数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性[J]. Chinese Optics. doi: 10.37188/CO.2024-0021

数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性

doi: 10.37188/CO.2024-0021

数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性

  • 摘要: 数字光栅位移测量技术将CMOS相机像素阵列当作一个“数字化”的光栅,通过构造光学光栅像和数字光栅的周期差,利用微米级的光学光栅像,实现纳米级的位移测量。可以应用于光刻机的调焦调平传感器中,结合倾斜入射的检测光路,对晶圆表面高度进行精确测量。在实际测量中,晶圆表面意外出现的图形会干扰光学光栅的反射成像,进而影响图像处理的结果。本文提出一种数字光栅位移测量的工艺适应性方法,以数字光栅周期为单位,对存在干扰图案时的CMOS图像进行光强的重建和光强曲线的恢复,能在晶圆基底出现较大面积图案时表现出很好的稳定性,且该方法可以适应多种表面缺陷,如划痕、颗粒、污渍和沟槽等。实验结果表明,图像光强的重建后,光强曲线的均方误差大幅减小,修正后的Z向测量误差在±33nm(±3σ=±41.2nm)以内。该方法能增强数字光栅调焦调平传感器的工艺适应性,为调焦调平方法提供技术参考。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2024-01-25
  • 修回日期:  2024-03-18
  • 录用日期:  2024-03-25
  • 网络出版日期:  2024-05-10

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