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激光等离子体极紫外光刻光源

窦银萍 孙长凯 林景全

窦银萍, 孙长凯, 林景全. 激光等离子体极紫外光刻光源[J]. 中国光学, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
引用本文: 窦银萍, 孙长凯, 林景全. 激光等离子体极紫外光刻光源[J]. 中国光学, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
DOU Yin-ping, SUN Chang-kai, LIN Jing-quan. Laser-produced plasma light source for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Optics, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
Citation: DOU Yin-ping, SUN Chang-kai, LIN Jing-quan. Laser-produced plasma light source for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Optics, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020

激光等离子体极紫外光刻光源

doi: 10.3788/CO.20130601.0020
基金项目: 

国家自然科学基金资助项目(No.61178022);吉林省科技厅资助项目(No.20111812)

详细信息
    作者简介:

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    通讯作者: 林景全
  • 中图分类号: TN305.7;O539

Laser-produced plasma light source for extreme ultraviolet lithography

  • 摘要: 研究并讨论了下一代光刻的核心技术之一激光等离子体极紫外光刻光源。简要介绍了欧美和日本等国极紫外光刻技术的发展概况,分析了新兴的下一代13.5 nm极紫外光刻光源的现状,特别讨论了国内外激光等离子体极紫外光刻光源的现状,指出目前其存在的主要问题是如何提高光源的转化效率和减少光源的碎屑。文中同时概述了6.x nm(6.5~6.7 nm)极紫外光刻光源的最新研究工作。最后,介绍了作者所在研究小组近年来在极紫外光源和极紫外光刻掩模缺陷检测方面开展的研究工作。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-10-11
  • 修回日期:  2012-12-13
  • 刊出日期:  2013-02-10

激光等离子体极紫外光刻光源

doi: 10.3788/CO.20130601.0020
    基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(No.61178022);吉林省科技厅资助项目(No.20111812)

    作者简介:

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    窦银萍 (1987—) ,女,吉林长春人,博士研究生,2010年于长春理工大学获得学士学位,主要从事激光等离子体极紫外光刻光源方面的研究。E-mail:douzi714@126.com;孙长凯(1979—),男,辽宁辽阳人,博士,讲师,2002年于辽宁师范大学获得学士学位,2005年、2010年于吉林大学分别获得硕士、博士学位,主要从事量子相干控制,激光等离子体极紫外光刻光源等方面的研究。E-mail:changkaisun@cust.edu.cn;林景全(1966—),男,吉林人,博士,教授,博士生导师,1999年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事飞秒激光与物质相互作用、极紫外光刻关键技术、光辐射电子显微术等方面的研究。E-mail: linjingquan@cust.edu.cn

    通讯作者: 林景全
  • 中图分类号: TN305.7;O539

摘要: 研究并讨论了下一代光刻的核心技术之一激光等离子体极紫外光刻光源。简要介绍了欧美和日本等国极紫外光刻技术的发展概况,分析了新兴的下一代13.5 nm极紫外光刻光源的现状,特别讨论了国内外激光等离子体极紫外光刻光源的现状,指出目前其存在的主要问题是如何提高光源的转化效率和减少光源的碎屑。文中同时概述了6.x nm(6.5~6.7 nm)极紫外光刻光源的最新研究工作。最后,介绍了作者所在研究小组近年来在极紫外光源和极紫外光刻掩模缺陷检测方面开展的研究工作。

English Abstract

窦银萍, 孙长凯, 林景全. 激光等离子体极紫外光刻光源[J]. 中国光学, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
引用本文: 窦银萍, 孙长凯, 林景全. 激光等离子体极紫外光刻光源[J]. 中国光学, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
DOU Yin-ping, SUN Chang-kai, LIN Jing-quan. Laser-produced plasma light source for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Optics, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
Citation: DOU Yin-ping, SUN Chang-kai, LIN Jing-quan. Laser-produced plasma light source for extreme ultraviolet lithography[J]. Chinese Optics, 2013, 6(1): 20-33. doi: 10.3788/CO.20130601.0020
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