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特定折射率材料及光学薄膜制备

申振峰

申振峰. 特定折射率材料及光学薄膜制备[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
引用本文: 申振峰. 特定折射率材料及光学薄膜制备[J]. 中国光学(中英文), 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
SHEN Zhen-feng. Preparation of specific refractive index material and optical thin films[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900
Citation: SHEN Zhen-feng. Preparation of specific refractive index material and optical thin films[J]. Chinese Optics, 2013, 6(6): 900-905. doi: 10.3788/CO.20130606.900

特定折射率材料及光学薄膜制备

doi: 10.3788/CO.20130606.900
基金项目: 

科技部国际合作资助项目(No. 2010DFR10720)

详细信息
    作者简介:

    申振峰(1977-),男,吉林省吉林市人,博士,副研究员,2000年于东北师范大学获得学士学位,2009年于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所获得博士学位,主要从事光学薄膜理论和制备以及SiC表面改性方面的研究。E-mail:zf_shen@163.com.cn

    通讯作者:

    申振峰

  • 中图分类号: O484.1

Preparation of specific refractive index material and optical thin films

  • 摘要: 根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要,应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示:用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率n=1.75,与优化设计所需数值相符;激光防护膜性能优良,太阳辐射能透过率提高6%以上,实现了对该激光防护膜性能的进一步优化。为了使该双源共蒸方法适于大面积薄膜的制备,应用均匀性挡板技术来提高该方法制备大面积薄膜的膜厚均匀性,使制备的掺杂材料薄膜在口径为400 mm时的不均匀性小于2.1%。该双源共蒸方法制备工艺简单、可靠,适于实际工程应用。薄膜性能测试结果与理论优化结果相符,达到预期优化目标。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2013-09-13
  • 修回日期:  2013-11-16
  • 刊出日期:  2013-12-10

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