-
GaN基紫外光电阴极具有日盲、高量子效率和高抗辐射等内在属性,使其在宇宙探测、火情监测和火箭羽烟探测等领域得以广泛应用[1-6]。GaN光电阴极在使用过程中不但要求阴极具有高的灵敏度和良好的发射性能,还要求阴极具备较高的稳定性,也就是其量子效率衰减速率越小越好。影响阴极稳定性的外部条件主要有两个,系统真空度和真空残气,系统真空度越高阴极表现出的稳定性越强[7],而不同类别的真空残气也会对阴极稳定性造成不同的影响[8, 9];影响阴极稳定性的内因也主要有两个,即阴极材料性能和阴极结构,阴极的稳定性是阴极材料内在属性的外在体现[10],而同一材料,如采用不同的结构,阴极性能亦随之变化,如采用梯度掺杂结构可明显提升阴极的量子效率[11-12]。
目前,基于均匀掺杂结构的稳定性结论[10, 13]能否同样适用于梯度掺杂结构GaN光电阴极,尚需用实验来验证。本文利用GaN光电阴极测试与评估系统[14],对阴极样品进行了量子效率衰减测试,依据测试结果的差异,对均匀掺杂和梯度掺杂样品的稳定性进行了比较与分析。
-
实验样品为均匀掺杂样品A和梯度掺杂样品B,其结构如图 1所示。两种样品均采用蓝宝石衬底,AlN缓冲层[15],Mg掺杂[16]和185 nm厚度的GaN光电发射层。区别为掺杂方式不同,样品A采用均匀掺杂,而样品B采用梯度掺杂。
图 1 反射式均匀掺杂样品A和梯度掺杂样品B结构图
Figure 1. Structure of reflection-mode uniform-doping sample A and gradient-doping sample B
对样品A和B利用相同工艺进行了阴极制备实验。首先对样品进行化学清洗[17],以去除样品表面的玷污[18],然后进行热清洗,以去除残存于样品表面的碳和氧[19],最后进行了Cs/O激活,使样品对入射光形成有效的响应[20]。在激活结束后,利用GaN光电阴极测试与评估系统对实验样品进行了多项对比测试:
(1) 样品A和B在激活后的量子效率对比测试曲线如图 2所示。
图 2 样品A和B在激活结束后的量子效率测试曲线
Figure 2. Quantum efficiency curves of sample A and sample B after activation
(2) 样品A和B的量子效率衰减曲线如图 3所示。
(3) 样品A和B的相对稳定性测试曲线如图 4所示。
(4) 样品A和B的衰减测试结果如表 1、表 2和表 3所示。
表 1 均匀掺杂样品A的衰减测试结果
Table 1. Quantum efficiency attenuation test results of sample A
波长/nm 240 260 280 300 320 340 激活后QE/% 51 36 27 20 16 14 12 h后QE/% 42 25 16 9.8 6.2 4.9 衰减比例/% 17.6 30.6 40.7 46 61.2 65 注:衰减比例为(激活后QE-12 h后QE)/激活后QE。 表 2 梯度掺杂样品B的衰减测试结果
Table 2. Quantum efficiency attenation test results of sample B
波长/nm 240 260 280 300 320 340 激活后QE/% 57 44 36 28 24 21 12 h后QE/% 48 32 24 18 13 10 衰减比例/% 15.8 27.3 33.3 35.7 45.8 52.4 注:衰减比例为(激活后QE-12 h后QE)/激活后QE。 表 3 样品A和样品B的衰减速率测试结果
Table 3. Attenuation rate test results of decadence rate for uniform-doping sample A and gradient-doping sample B
衰减速率(a.u/h) 测试时间/h 2 4 6 8 10 12 梯度掺杂样品B 32 19.1 12.7 10.4 4.7 4.6 均匀掺杂样品A 40 30 19.1 17.6 14.3 8.3 注:衰减速率为(测试值1-测试值2)×100/测试值1。 -
由图 3可知,阴极衰减时,其量子效率测试曲线随衰减过程而整体下移,量子效率明显下降,且短波辐射区域下移幅度小,而长波辐射区域下移幅度则相对较大。也就是说,短波区域所对应的量子效率损失较少,而长波辐射区域的量子效率衰减较大,即样品在衰减过程中入射光长波段区域的量子效率损失比例偏大(参见表 1和表 2衰减比例测试结果)。
GaN光电阴极衰减曲线在不同波段内具有不同的变化趋势与高能光电子的隧穿逸出有关。GaN光电阴极受入射光辐照后,所发射光电子的能量分布随入射光子能量的升高而趋向高能端偏移,依据双偶极层模型,阴极衰减时,其表面势垒会产生如图 5中虚线所示的变化,表面势垒的高度和宽度都有所加大。由于势垒变化对高能光电子的逸出影响不是太大,却使低能光激发电子逸出几率降低,就导致了阴极光谱响应测试曲线随入射光波长改变而产生相应的变化[21]。
-
由于两种样品采用不同的掺杂结构,使得其能带结构也不相同,如图 6所示[11]。与均匀掺杂样品A相比,在样品B中,掺杂浓度从体内到表面依次下降,呈阶梯状分布(参见图 1(b)),浓度差的存在导致各区域界面处产生内建电场,且所有内建电场的方向都是由体表指向体内,使得体内的光生电子向表面传输时可获得附加能量,可促使更多且能量偏高的光电子能够输运至阴极表面,这不但提高了光生电子传输至阴极表面的几率,而且使到达阴极表面的光生电子高能化。输运至阴极表面的光电子越多也就意味着有更多的光电子可隧穿表面势垒逸入真空,高能光电子的对应解释是更容易越过表面势垒而逸出(参见图 5),两种因素的共同作用使得阴极一方面表现出较高的光谱响应能力,可获得更高的量子效率,另一方面又会使阴极的衰减变缓,表现出较高的稳定性(参见图 4)。
图 6 均匀掺杂样品A和梯度掺杂样品B能带结构示意图(Ec为导带能级,Ev为价带能级,EF为费米能级,E0为真空能级,Eg为GaN的禁带宽度)
Figure 6. Energy band structure of uniform-doping sample A and gradient-doping sample B(EC is the conduction band minimum, EV is the valence band maximum, EF is the Fermi level, E0 is the vacuum level, Eg is the band gap)
对于梯度掺杂样品,由于其电子扩散漂移长度LDE及电子表面逸出几率P均大于均匀掺杂样品,使得其光电发射性能明显优于均匀掺杂样品,灵敏度、长波响应和稳定性都得以大幅提升,解释如下:(1)由于梯度掺杂样品的掺杂浓度存在渐次变化,由体内处1018 cm-3量级渐次降低到表面处的1016 cm-3量级(参见图 1(b)),其平均掺杂浓度要比均匀掺杂样品的掺杂浓度(1018 cm-3量级)低,所以其电子扩散长度LD相应较大,LD越大则输运至阴极表面的光电子数量越多;(2)由于梯度掺杂样品中存在内建电场,光生电子可在内建电场的作用下向表面定向漂移,使电子的输运长度LDE增加,可使输运至阴极表面的电子数目增多并且能量得以增强,数量多则逸出的几率也就大一些,能量高则更易逸出[22];(3)梯度掺杂样品的能带向下弯曲倾斜(参见图 6(b)),和均匀掺杂样品相比,E0能够下降得更低,表面势垒的阻挡作用下降,使得低能电子也有可能隧穿势垒而逸出,电子表面逸出几率P得以提高[23]。因此,由于内建电场的存在:(1)可以提高输运至样品表面的电子能量,使高能电子比例增大,光生电子更易隧穿势垒,逸入真空的光电子几率得以提高,相应也使阴极的光谱响应能力更加灵敏,可获得更高的量子效率;(2)在样品衰减时,Cs脱附等因素会使表面势垒发生变化,但由于内建电场使输运至阴极表面的电子能量得以提高,光生电子隧穿表面势垒时受到这种变化的影响并不大,衰减速率较慢(参见表 3),梯度掺杂样品相对于均匀掺杂样品可表现出更好的稳定性。
简言之,由于内建电场的作用,梯度掺杂样品的性能要优于均匀掺杂样品,梯度掺杂结构能够明显提升光电阴极的量子效率和稳定性。
-
梯度掺杂和均匀掺杂GaN光电阴极的稳定性存在诸多相似之处,如:(1)在高真空环境中皆表现出超强的稳定性(参见图 3,放置12 h后仍具有高达30%的量子效率);(2)阴极衰减过程中长波段量子效率损失比例较大等。但二者的稳定性也存在差异,梯度掺杂结构可明显提升阴极的稳定性。两种样品在稳定性方面所显现出的较多共性是由同种材料的内在属性所决定的,而结构的不同又会使两种阴极的稳定性表现出相应的不同点。梯度掺杂结构中,阴极发射层内产生了系列内建电场,内建电场的存在使光激发电子向阴极表面传输时获得附加能量,逸出几率更高,使阴极的量子效率衰减变慢,从而使阴极的稳定性得以提高。
-
摘要: 利用GaN光电阴极多信息量测试评估系统,对反射式梯度掺杂和均匀掺杂GaN光电阴极样品进行了激活及衰减后的量子效率测试,并测试衰减速率。在同样的衰减时间内,和均匀掺杂样品相比,梯度掺杂样品的衰减比例较小,衰减速率较慢,其原因在于梯度掺杂结构可在其发射层内部产生系列内建电场,致使其能带连续向下弯曲,导致其表面真空能级比均匀掺杂样品下降得更低,发射层表面形成的负电子亲和势更明显,造成发射层内的光生电子更易逸出,阴极量子效率的衰减变慢,从而使其稳定性强于均匀掺杂结构。Abstract: The GaN photocathode multi-information measurement and evaluation system is used to test the quantum efficiency of the reflective gradient-doped and uniformly doped GaN photocathode samples after activation and attenuation, and the attenuation rate test is performed. The gradient-doped sample has a smaller attenuation ratio and a slower decay rate than the uniform-doped sample within the same decay time because the gradient-doped structure can generate a series of built-in electric fields inside the emissive layer. As a result, the energy band can be continuously bent downwards, resulting in a lower surface vacuum level than that of the uniformly doped sample, and the negative electron affinity formed on the surface of the emission layer is more pronounced, resulting in easier escape of photogenerated electrons in the emission layer. The decay of the cathode quantum efficiency becomes slower, making it more stable than uniform-doped structures.
-
Key words:
- GaN /
- photocathode /
- gradient-doping /
- built-in electric field /
- stability
-
表 1 均匀掺杂样品A的衰减测试结果
Table 1. Quantum efficiency attenuation test results of sample A
波长/nm 240 260 280 300 320 340 激活后QE/% 51 36 27 20 16 14 12 h后QE/% 42 25 16 9.8 6.2 4.9 衰减比例/% 17.6 30.6 40.7 46 61.2 65 注:衰减比例为(激活后QE-12 h后QE)/激活后QE。 表 2 梯度掺杂样品B的衰减测试结果
Table 2. Quantum efficiency attenation test results of sample B
波长/nm 240 260 280 300 320 340 激活后QE/% 57 44 36 28 24 21 12 h后QE/% 48 32 24 18 13 10 衰减比例/% 15.8 27.3 33.3 35.7 45.8 52.4 注:衰减比例为(激活后QE-12 h后QE)/激活后QE。 表 3 样品A和样品B的衰减速率测试结果
Table 3. Attenuation rate test results of decadence rate for uniform-doping sample A and gradient-doping sample B
衰减速率(a.u/h) 测试时间/h 2 4 6 8 10 12 梯度掺杂样品B 32 19.1 12.7 10.4 4.7 4.6 均匀掺杂样品A 40 30 19.1 17.6 14.3 8.3 注:衰减速率为(测试值1-测试值2)×100/测试值1。 -
[1] 洪国彬, 杨钧杰, 卢廷昌.蓝紫光氮化镓光子晶体面射型激光器[J].中国光学, 2014, 7(4):559-571. http://www.chineseoptics.net.cn/CN/abstract/abstract9184.shtml HONG K B, YANG CH CH, LU T CH. Blue-violet GaN-based photonic crystal surface emitting lasers[J]. Chin. Opt., 2014, 7(4):559-571.(in Chinese) http://www.chineseoptics.net.cn/CN/abstract/abstract9184.shtml [2] 秦华, 黄永丹, 孙建东, 等.二维电子气等离激元太赫兹波器件[J].中国光学, 2017, 10(1):51-67. http://www.chineseoptics.net.cn/CN/abstract/abstract9511.shtml QIN H, HUANG Y D, SUN J D, et al.. Terahertz-wave devices based on plasmons in two-dimensional electron gas[J]. Chin. Opt., 2017, 10(1):51-67.(in Chinese) http://www.chineseoptics.net.cn/CN/abstract/abstract9511.shtml [3] 蔡丽娥, 张保平, 张江勇, 等.GaN基蓝光VCSEL的制备及光学特性[J].发光学报, 2016, 37(4):452-456. http://www.cqvip.com/QK/92489X/201604/668520133.html CAI L E, ZHANG B P, ZHANG J Y, et al.. Fabrication and characteristics of GaN-based blue VCSEL[J]. Chinese J. Luminescence, 2016, 37(4):452-456.(in Chinese) http://www.cqvip.com/QK/92489X/201604/668520133.html [4] 邹水平, 吴柏禧, 万珍平, 等.电-热应力对GaN基白光LED可靠性的影响[J].发光学报, 2016, 37(1):124-129. http://www.cqvip.com/QK/92489X/201601/667808202.html ZOU SH P, WU B X, WAN ZH P, et al.. Effect of current-temperature stress on the reliability of GaN LED[J]. Chinese J. Luminescence, 2016, 37(1):124-129.(in Chinese) http://www.cqvip.com/QK/92489X/201601/667808202.html [5] 李志全, 王聪, 李文超, 等.利用Ag/P-GaN双光栅改善LED发光特性[J].光学 精密工程, 2017, 25(5):1185-1191. http://wuxizazhi.cnki.net/Sub/yqyb/a/GXJM201705009.html LI ZH Q, WANG C, LI W CH, et al.. Improving LED luminescence properties by using Ag/P-GaN double grating[J]. Opt. Precision Eng., 2017, 25(5):1185-1191.(in Chinese) http://wuxizazhi.cnki.net/Sub/yqyb/a/GXJM201705009.html [6] 王永进, 张锋华, 高绪敏, 等.面向可见光波段的非周期悬空GaN薄膜光栅[J].光学 精密工程, 2017, 25(12):3020-3026. https://www.wenkuxiazai.com/word/00576a9fd5bbfd0a795673eb-1.doc WANG Y J, ZHANG F H, GAO X M, et al.. Freestanding non-periodic GaN gratings in visible wavelength region[J]. Opt. Precision Eng., 2017, 25(12):3020-3026.(in Chinese) https://www.wenkuxiazai.com/word/00576a9fd5bbfd0a795673eb-1.doc [7] SOMMER A H. Stability of photocathode[J]. Appl. Opt., 1973, 12(1):90-92. doi: 10.1364/AO.12.000090 [8] 徐江涛.真空残气对GaAs阴极发射性能的影响[J].应用光学, 2003, 24(2):13-15. http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=yygx200302005 XU J T. Effect of residual gas on emission property of Gallium Arsenide cathode in vacuum[J]. J. Appl. Opt., 2003, 24(2):13-15.(in Chinese) http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=perio&id=yygx200302005 [9] WADA T, NITTA T, NOMURA T. Influence of exposure to CO, CO2 and H2O on the stability of GaAs photocathodes[J]. Jpn. J. Appl. Phys., 1990, 29(10):2087-2091. https://www.researchgate.net/profile/Shiyu_Sun4 [10] MACHUCA F. A Thin Film p-type GaN Photocathode: prospect for a high performance electron emitter[D]. Stanford: University Stanford, 2004. [11] ZOU J J, CHANG B K. Gradient-doping negative electron affinity GaAs photocathodes[J]. Opt. Eng., 2006, 45(5):054001. doi: 10.1117/1.2205171 [12] YANG ZH, CHANG B K, ZOU J J. Comparison between gradient-doping GaAs photocathode and uniform-doping GaAs photocathode[J]. Appl. Opt., 2007, 46(28):7035-7039. doi: 10.1364/AO.46.007035 [13] 乔建良, 常本康, 杜晓晴, 等.反射式负电子亲和势GaN光电阴极量子效率衰减机理研究[J].物理学报, 2010, 59(4):2855-2859. doi: 10.7498/aps.59.2855 QIAO J L, CHANG B K, DU X Q, et al.. Quantum efficiency decay mechanism for reflection mode negative electron affinity GaN photocathode[J]. Acta Phys. Sinica, 2010, 59(4):2855-2859.(in Chinese) doi: 10.7498/aps.59.2855 [14] 高频, 王晓晖, 杜玉杰, 等.NEA GaN光电阴极的制备与评估[J].红外技术, 2011, 33(6):332-335. http://www.cqvip.com/QK/92901X/201106/38270750.html GAO P, WANG X H, DU Y J, et al.. Preparation and evaluation of NEA GaN photocthode[J]. Infrared Technol., 2011, 33(6):332-335.(in Chinese) http://www.cqvip.com/QK/92901X/201106/38270750.html [15] IWAYA M, TAKEUCHI T, YAMAGUCHI S, et al.. Reduction of etch pit density in organometallic vapor phase epitaxy-grown GaN on sapphire by insertion of a low-temperature-deposited buffer layer between high-temperature-grown GaN[J]. Jpn. J. Appl. Phys., 1998, 37:L316-L318. doi: 10.1143/JJAP.37.L316 [16] NAKCMURA S, MUKAI T, SENOH M, et al.. Thermal annealing effects on p-type Mg-doped GaN films[J]. Jpn. J. Appl. Phys., 1992, 31:L139-L140. doi: 10.1143/JJAP.31.L139 [17] MACHUCA F, LIU Z. Fabrication of group Ⅲ-Nitride photocathode having Cs activation layer: US, 0170324 A1[P]. 2006-01-01. [18] TERESHCHENKO O E, SHAIBLER G, YAROSHEVICH A S, et al.. Low-temperature method of cleaning p-GaN(0001) surfaces for photoemitters with effective negative electron affinity[J]. Phys. Solid State, 2004, 46(10):1949-1953. doi: 10.1134/1.1809437 [19] KING S W, BARNAK J P, BREMSER M D, et al.. Cleaning of AlN and GaN surfaces[J]. J. Appl. Phys., 1998, 84(9):5248-5260. doi: 10.1063/1.368814 [20] 乔建良, 田思, 常本康, 等.负电子亲和势GaN光电阴极激活机理研究[J].物理学报, 2009, 58(8):5847-5851. doi: 10.7498/aps.58.5847 QIAO J L, TIAN S, CHANG B K, et al.. Activation mechanism of negative electron affinity GaN photocathode[J]. Acta Phys. Sinica, 2009, 58(8):5847-5851.(in Chinese) doi: 10.7498/aps.58.5847 [21] 邹继军, 常本康, 杜晓晴, 等.GaAs光电阴极光谱响应曲线形状的变化[J].光谱学与光谱分析, 2007, 27(8):1465-1468. http://www.cqvip.com/QK/90993X/200708/25252972.html ZOU J J, CHANG B K, DU X Q, et al.. Variation of spectral response curve shape of GaAs photocathodes[J]. Spectrosc. Spectral Anal., 2007, 27(8):1465-1468.(in Chinese) http://www.cqvip.com/QK/90993X/200708/25252972.html [22] NIU J, ZHANG Y J, CHANG B K, et al.. Influence of varied doping structure on photoemissive property of photocathode[J]. Chin. Phys. B, 2011, 20(4):044209. doi: 10.1088/1674-1056/20/4/044209 [23] 张益军. 变掺杂GaAs光电阴极研制及其特性评估[D]. 南京: 南京理工大学, 2012. http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=degree&id=Y2275823 ZHANG Y J. Design and characteristic evaluation of varied doping GaAs photocathode[D]. Nanjing: Nanjing University of Science and Technology, 2012. (in Chinese) http://www.wanfangdata.com.cn/details/detail.do?_type=degree&id=Y2275823 -