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高功率准分子激光主振荡功率放大系统光学元件的稳定性

沈炎龙 黄珂 马连英 郑国鑫 王大辉

沈炎龙, 黄珂, 马连英, 郑国鑫, 王大辉. 高功率准分子激光主振荡功率放大系统光学元件的稳定性[J]. 中国光学(中英文), 2011, 4(1): 66-71.
引用本文: 沈炎龙, 黄珂, 马连英, 郑国鑫, 王大辉. 高功率准分子激光主振荡功率放大系统光学元件的稳定性[J]. 中国光学(中英文), 2011, 4(1): 66-71.
SHEN Yan-long, HUANG Ke, MA Lian-ying, ZHENG Guo-xin, WANG Da-hui. Optical element stability of high power excimer laser MOPA system[J]. Chinese Optics, 2011, 4(1): 66-71.
Citation: SHEN Yan-long, HUANG Ke, MA Lian-ying, ZHENG Guo-xin, WANG Da-hui. Optical element stability of high power excimer laser MOPA system[J]. Chinese Optics, 2011, 4(1): 66-71.

高功率准分子激光主振荡功率放大系统光学元件的稳定性

基金项目: 

激光与物质相互作用国家重点实验室基金资助项目(No.SKL110904)

详细信息
    作者简介:

    沈炎龙(1983—),男,湖南岳阳人,硕士,研究实习员,主要从事高功率激光技术及应用方面的研究。 E-mail:yanlong@mail.ustc.edu.cn 黄 珂(1979—),男,山东青岛人,硕士,助理研究员,主要从事激光技术及应用研究。 E-mail:xahk_cs@126.com

  • 中图分类号: TN248.2

Optical element stability of high power excimer laser MOPA system

  • 摘要: 为了分析高功率准分子激光主振荡功率放大(MOPA)系统中各光学元件稳定性对靶面光斑定位精度的影响,建立了分析模型,利用分析结果指导高稳定性镜架设计以满足系统实验需求。根据高功率准分子激光MOPA系统特点,有效地简化了系统光路,建立了系统光路模型;按照系统打靶精度要求,利用三维坐标变换和光线追迹法,计算得到了系统单个光学元件稳定性对靶面光斑定位精度的影响规律;最后,对自行设计的镜架进行了稳定性测量。计算结果表明,反射镜的旋转变化和透镜垂直光轴的平移变化是影响靶面光斑定位精度的主要因素,且主放大光路中反射镜在X方向和Y方向上最大的变化范围分别不能超过0.8和1.6 rad。实际测量结果表明,设计的镜架在X方向和Y方向最大的变化范围分别为0.6和0.81 rad,满足系统实验要求。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2010-08-16
  • 修回日期:  2010-10-24
  • 刊出日期:  2011-02-25

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